双镜紫外线的多层膜性能，衍射显微镜的监测

一个多层涂覆的反射物镜，其中两个由反射镜的表面轮廓和由多层涂层影响的像差，

这被评估具有相移的点衍射技术，

干涉仪主要在极紫外线的操作，采用了波前测量近13.4nm的多波长，

我们观察到色差和波长依赖传输性的变化，是由于钼硅的多层涂层中色的晕影，

由于光学元件的成像的性能中包括了有限多层反射，其中通带的影响被考虑两个因素。

分别从两个反射镜光学系统的干涉测量数据中提取的涂层特性，并为个别镜衬底测量以前报道的涂布性能进行比较。

二元光学元件的使用范围包括了M个面具图案与N制的衍射特性，

三套的光刻和干法刻蚀的工艺重复制造了二进制的光栅，而且通过精密仪器进行了研究。

一般算法上介绍以确定的掩模图案的数据，并在每一个制造过程中使用蚀刻深度相结合，

首先，所有的方法都可以用来创建不同的结构，然后，衍射效率可以达到不同程度的数字。

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