本文标题："超分辨率成像技术的概念"

超分辨率成像技术的概念

超分辨率成像技术的最重要的概念。是一种简化雅布隆斯基能量图，示出的可能是电子基态和激发态，由于耗尽激光强度增加时，减少的区域中的荧光团是能够居住在A状态以产生后继增加横向分辨率。消耗和激发激光的配置文件说明了一个三维线框表示的是点扩散函数修改的技术。

目标光控的进行，通过在空间上控制耗尽激光光强度的分布，所以只有有限数目的分子可以接通，虽然大多数的其他分子保持在关断状态。

因此，当一个特定的波长具有定义的强度（即远高于饱和磁化强度）的选择切换的荧光团，应用此光空间调制的方式是用来限制在上状态下的剩余荧光急剧定义的区域。使用这些技术的点扩散函数的分辨率。

其中，λ是波长的激发光的将合并是物镜的数值孔径，该变量一个是一个参数，该参数考虑到形状的空间调制的耗尽激光束，这常常是线的形状或环形具有一个中央零节点的形式表现在平方根下。

最大耗尽激光的峰值强度，I S 是被成像的荧光基团的饱和磁化强度。在那里最大等于零的情况下，可降低阿贝衍射的极限。相反，当最大荧光团和饱和磁化强度大得多，点扩散函数变得非常窄，实现超分辨率。

例如，当最大I S = 100，分辨率提高约10倍。因此，在理论，子衍射分辨率下的阿贝极限尺度与消耗的基态的光强的平方根。所有方法的分辨率依赖于目标读出的荧光探针，包括RESOLFT受激发射损耗，而不管受荧光基团的空间调制的几何参数，切换机构都在显微镜的配置下。

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