本文标题："一般薄膜基底系统的光学参数的测定，反射光显微镜的检测"

一般薄膜基底系统的光学参数的测定，反射光显微镜的检测

基于概念的信封极端和地方的震的改写，

我们提出了一个重新的光学参数的测定，一般薄膜基板的系统。

光度程度干扰的电影开发了形式主义，介绍我们建立多少个参数，

这可以提炼出了一套测量和哪种类型的样品模型。

这些参数是薄膜与基材的折射率和吸收（即1 = 1 - 1和N 2 = N 2 JK - JK 2），

膜的厚度（D），膜的不均匀性（Δ1），和表面粗糙度的接口（2），限定膜新的形式主义，导致了一些新的分析结果并确认，

新的结果我们有以下几点：

（一）常用的数学条件与干涉图样的极值（最大或最小值），定义实际上是一个为信封极端的条件。

（二）在没有先验知识的厚度或基片的折射率，我们有一个光学干涉膜，可以得到膜的折射率。

（三）吸收直接解压就可以从一个无干扰的幅度/（1 - ）得到结果。

（四）表面粗糙度的内表面中的不均匀性和吸收相关的反射光谱的测量。

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